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KSiS SILICON WORLD (Vol. 2, No.1)

January, 2013

 

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Çѱ¹½Ç¸®ÄÜÇÐȸ´Â 2011³â 12¿ù ±³À°°úÇбâ¼úºÎ·ÎºÎÅÍ ºñ¿µ¸® ¹ýÀÎÀÇ ÇÐȸ¼³¸³ ½ÂÀÎÀ» ¹Þ°í, Áö³­ÇØ 2¿ù¿¡ ÀÖ¾ú´ø 2012³âµµ Çѱ¹½Ç¸®ÄÜÇÐȸ ÃÑȸ ¹× Çмú´ëȸ¸¦ ½ÃÀÛÀ¸·Î Ãâ¹ßÇß½À´Ï´Ù. ±×µ¿¾È ÇÐȸ ȸ¿ø°ú ÀÓ¿ø ¿©·¯ºÐÀÇ ÇùÁ¶·Î ºü¸¥ ½Ã°£ ³»¿¡ ½Å»ýÇÐȸÀÇ ¸ð½ÀÀ» °®Ãß°Ô µÇ¾ú½À´Ï´Ù. ÇöÀç ÇÐȸ ȸ¿ø¼ö´Â 180¿©ºÐÀ¸·Î, ÇÐȸ ȨÆäÀÌÁöÀÇ ¿øÈ°ÇÑ ¿î¿µ, ¡°½Ç¸®Äܼ¼°è¡± ¼Ò½ÄÁö ¹ß°£, ±×¸®°í ½Ç¸®ÄÜÈ­ÇÐ ¹× ½Ç¸®ÄܼÒÀç °ü·Ã ±³À°ÇÁ·Î±×·¥ÀÎ ¡°½Ç¸®ÄÜ ¾ÆÄ«µ¥¹Ì¡±¸¦ ¼º°øÀûÀûÀ¸·Î °³ÃÖÇÏ´Â µîÀÇ ¼º°ú¸¦ ÀÌ·ç±âµµ ÇÏ¿´½À´Ï´Ù.

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2013
³â »õÇØ¿¡µµ 2013³âµµ ÇÐȸÃÑȸ ¹× Çмú´ëȸ, 2nd International Symposium on Applied Silicon Chemistry(ISASC-II) °³ÃÖ, Á¦2ȸ ¡°½Ç¸®ÄÜ ¾ÆÄ«µ¥¹Ì¡± °³ÃÖ¸¦ ºñ·ÔÇÏ¿© ¼Ò½ÄÁöÀÎ ¡°½Ç¸®Äܼ¼°è¡±¸¦ Áö¼ÓÀûÀ¸·Î ¹èÆ÷ÇÏ°í ÇÐȸ ȸ¿ø ¼ö¸¦ ´Ã¸®·Á´Â ³ë·ÂÀ» ´Ù ÇÒ °èȹÀÔ´Ï´Ù. Àú¿Í ÀÓ¿øÁøÀº ÇÐȸ¹ßÀüÀ» À§ÇØ ÃÖ¼±À» ´ÙÇÒ °ÍÀ» ¾à¼Óµå¸®¸é¼­, °èȹÇÏ°í ÀÖ´Â Çà»çµéÀÌ ¼º°øÀûÀ¸·Î ÀÌ·ç¾î Áú ¼ö ÀÖµµ·Ï ȸ¿ø ¿©·¯ºÐÀÇ Àû±ØÀûÀÎ Âü¿©¿Í ÇùÁ¶¸¦ ºÎŹµå¸³´Ï´Ù.

¾Æ½Ã´Â ´ë·Î 21¼¼±â´Â Áö½Ä±â¹Ý»çȸ·Î ¿À´Ã³¯ ¿¬±¸¿Í °³¹ßÀÇ Á߿伺ÀÌ Å©°Ô ºÎ°¢µÇ°í ÀÖ½À´Ï´Ù. µû¶ó¼­ ´ëÇаú ¿¬±¸±â°ü ±×¸®°í »ê¾÷üÀÇ ±¸¼º¿øµéÀÌ Âü¿©ÇÏ°í ÀÖ´Â ¿ì¸® ÇÐȸÀÇ ¿ªÇÒ°ú ±â´ÉÀÌ ´õ¿í Áß¿äÇØÁö°í ÀÖ´Ù°í »ý°¢ÇÕ´Ï´Ù. ÀÌ¿Í °ü·ÃÇÏ¿© ¿ì¸® Çѱ¹½Ç¸®ÄÜÇÐȸ°¡ ¾ÕÀ¸·Î ³ª¾Æ°¥ ¹æÇâ°ú ¸ñÇ¥¸¦ ´Ù½Ã Á¡°ËÇÏ°í ¼³Á¤ÇϱâÀ§ÇØ ÇÐȸÂ÷¿øÀÇ ½Éµµ ÀÖ°í Áö¼ÓÀûÀÎ ³íÀÇ°¡ ÀÖ¾î¾ß ÇÒ °ÍÀ¸·Î »ý°¢ÇÕ´Ï´Ù. ¶ÇÇÑ »êÇп¬ ¿¬±¸ÀÚµéÀÇ ¿ª·®À» ¸ðÀ¸°í »ê¾÷ü °æ¿µÀεéÀÇ Çù·ÂÀ» ±¸Çؼ­ ¼­·Î¿¡°Ô À¯ÀÍÇÑ ½Ã³ÊÁö¸¦ ³¾ ¼ö ÀÖµµ·Ï ¿ì¸® ¸ðµÎÀÇ ÁöÇý¸¦ ¸ð¾Æ¾ß ÇÒ ¶§ÀÔ´Ï´Ù. ȸ¿ø ¿©·¯ºÐ²²¼­ ÁÁÀº ÀÇ°ßÀ» º¸Å ÁÖ½Ç °ÍÀ» ±â´ëÇÕ´Ï´Ù.

³¡À¸·Î ´Ù½Ã ÇÑ ¹ø ÇÐȸ ¹ßÀü¿¡ Å« µµ¿òÀ» ÁֽŠȸ¿ø ¿©·¯ºÐ²² °¨»çµå¸®°í, »õÇØ¿¡µµ Çѱ¹½Ç¸®ÄÜÇÐȸ¿¡ ¾ÖÁ¤À» °¡Áö½Ã°í ºÎ´ÜÇÑ ÇùÁ¶¿Í Âü¿©¸¦ ºÎŹ µå¸®¸é¼­ »õÇØ Àλçµå¸®°Ú½À´Ï´Ù.

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2013
³â 1¿ù 1ÀÏ

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¿øÇϽôÂÁö ¶Ç´Â °ÅÀýÇϽôÂÁö ¿¹, ¾Æ´Ï¿À·Î ¾Ë·ÁÁֽʽÿÀ:  ¿¹ : ¾Æ´Ï¿À

ÁÖ¼Ò: Çѱ¹½Ç¸®ÄÜÇÐȸ, °­¿øµµ ¿øÁֽà Èï¾÷¸é ¿¬¼¼´ë±æ, ¿¬¼¼´ëÇб³ âÁ¶°ü, ¿ìÆí¹øÈ£; 220-710 ÀüÈ­: 033-760-5230

 

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